膜厚測定および解析について理解を深めたい方、装置購入をご検討中の方は、ぜひこの機会に膜厚測定セミナーにご参加ください。
●開 催 日 | 下記参照 |
●お 申 込 | お申込は終了させていただきました |
●会 場 | <東京会場> 大塚電子(株) 東京支店 <大阪会場> 大塚電子(株) 本社 <滋賀会場> 大塚電子(株) 滋賀工場 |
●定 員 | 個別技術相談会 2組 (予約制) 膜厚測定セミナー |
●費 用 | 無料 |
対象者 | テーマ | 説明機種 | 東京会場 | 大阪会場 | 滋賀会場 |
初級 | 膜厚測定の原理と解析について | FE-3000 FE-300 |
6月13日(水) | 6月14日(木) | - |
中級 | 反射分光法による膜厚評価と実習 | FE-3000 | 11月7日(水) | - | 11月8日(木) |
中級 | エリプソメトリーによる膜厚評価と実習 | FE-5000 | 12月12日(水) | - | 12月13日(木) |
多層膜の膜厚・膜質評価を高速・高精度で実現! |
●反射分光膜厚計 FE-3000![]() マルチチャンネル検出器による高速性と、顕微光学系による多機能を付加した光干渉式膜厚測定システムです。紫外可視域から近赤外域までの顕微反射スペクトルにより、多層薄膜から厚膜まで幅広いレンジの膜厚測定を高速・高精度で実現します。半導体材料、FPD材料、光記憶材料、新機能性材料など、多様化する各種膜厚、膜質解析にお応えします。
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小型・低価格!簡単操作で、"非接触"膜厚測定! |
● 膜厚モニター FE-300![]() 薄膜から厚膜の幅広い膜厚測定に対応可能な光干渉式膜厚計です。 コンパクト・低価格でありながら高精度測定を実現します。 |
エリプソパラメータ測定、多層膜厚解析、光学定数解析などによリ、超薄膜の詳細な解析に対応 |
● 分光エリプソメータ FE-5000![]() 紫外可視(250~800nm)の波長領域でのエリプソパラメータ測定やナノメータオーダーの多層薄膜の膜厚解析が可能なエリプソメータです。 |