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無事終了いたしました。
多数のご来場を頂き、誠にありがとうございました
多数のご来場を頂き、誠にありがとうございました
セミコンジャパン2011にて、弊社製品の最新技術をご紹介します。
大塚電子ブースでは、「膜厚モニター FE-300」を実機展示します。薄膜から厚膜の幅広い膜厚測定に対応可能な光干渉式膜厚計です。コンパクトな外観、優れた操作性をぜひ弊社ブースにてご覧ください。
この他に、エプソンメソッド対応「PFC簡易測定ツール」を搭載した「ガス分析装置」、 CMPスラリー分散評価やウェハ表面解析に最適な「ゼータ電位計」も展示します。
ぜひ弊社ブース(7B-207)へお立ち寄りください。
大塚電子ブースでは、「膜厚モニター FE-300」を実機展示します。薄膜から厚膜の幅広い膜厚測定に対応可能な光干渉式膜厚計です。コンパクトな外観、優れた操作性をぜひ弊社ブースにてご覧ください。
この他に、エプソンメソッド対応「PFC簡易測定ツール」を搭載した「ガス分析装置」、 CMPスラリー分散評価やウェハ表面解析に最適な「ゼータ電位計」も展示します。
ぜひ弊社ブース(7B-207)へお立ち寄りください。
| ●名 称 | SEMICON Japan 2011 | |
| ●会 期 | 2011年12月7日（水）～9日（金）10：00 ～ 17：00 | |
| ●会 場 | 幕張メッセ | |
| ●入場料 | 無料（事前登録制） → 事前登録はこちら |
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| ●主 催 | SEMIジャパン |
【 アポイントメント・シートについて 】
アポイントメント・シートの受付は終了させていただきました。
アポイントメント・シートの受付は終了させていただきました。
・ご来場の日時をご連絡いただければ、弊社ブースにて担当者がお待ち
しております。
・事前に当日の質問内容、ご要望をお聞かせいただければ、お客様に あったご提案を差し上げることも
可能です。
・アポイントメントにお申し込みいただきますと、弊社ブースご来場時に粗品をお渡しいたします。
・事前に当日の質問内容、ご要望をお聞かせいただければ、お客様に あったご提案を差し上げることも
可能です。
・アポイントメントにお申し込みいただきますと、弊社ブースご来場時に粗品をお渡しいたします。
| 【 膜厚評価 】 小型・低価格！簡単操作で、"非接触"膜厚測定！ |
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● 膜厚モニター FE-300 薄膜から厚膜の幅広い膜厚測定に対応可能な光干渉式膜厚計です。 コンパクト・低価格でありながら高精度測定を実現します。
*2 仕様により測定膜厚範囲および測定波長範囲は異なります |
| 【 膜厚評価 】 多層膜の膜厚・膜質解析を高速・高精度で実現！ |
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● 反射分光膜厚計 FE-3000 マルチチャンネル検出器による高速性と、顕微光学系による多機能を付加した光干渉式膜厚測定システムです。紫外可視域から近赤外域までの顕微反射スペクトルにより、多層薄膜から厚膜まで幅広いレンジの膜厚測定を高速・高精度で実現します。半導体材料、FPD材料、光記憶材料、新機能性材料など、多様化する各種膜厚、膜質解析にお応えします。
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| 【 FTIRガス分析装置 】 プロセス装置から排出されるPFCガスの成分分析 |
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● 工業用ガス分析装置 IG-2000 誰にでも現場で簡単にガス成分分析ができるプロセス用ガス連続モニターです。エプソンメソッドに対応した「PFC簡易測定ツール」を搭載。半導体・液晶工場におけるPFCガス（地球温暖化ガスなど）の現場分析に最適です。
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| 【 ゼータ電位・粒径測定装置 】 CMPスラリー分散評価とウｪハ表面解析 |
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● ゼータ電位・粒径測定システム ELSZ series  微粒子の分散・凝集性、表面改質の指標となるゼータ電位および粒子径・粒子径分布を測定する装置です。
CMPのスラリー液に含まれる研磨微粒子の分散安定性評価、シリコンウェハ上の表面電荷測定に利用できます。
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