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無事終了いたしました。
多数のご来場を頂き、誠にありがとうございました
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セミコンジャパン2008にて、弊社製品の最新技術をご紹介いたします。
弊社ブースでは、省スペース型ガス分析装置（IG-2000）をご紹介します。 高性能・高機能をそのままに省スペースと低価格を実現。エプソンメソッド対応のPFC簡易測定ツールを搭載しています。
また、出展社セミナーでは、「工業用ガス分析装置 IGシリーズ」の活用方法についてご紹介します。
ぜひ弊社ブース(1B-215)へお立ち寄りください。
弊社ブースでは、省スペース型ガス分析装置（IG-2000）をご紹介します。 高性能・高機能をそのままに省スペースと低価格を実現。エプソンメソッド対応のPFC簡易測定ツールを搭載しています。
また、出展社セミナーでは、「工業用ガス分析装置 IGシリーズ」の活用方法についてご紹介します。
ぜひ弊社ブース(1B-215)へお立ち寄りください。
| ●名 称 | SEMICON Japan 2008 |
| ●日 時 | 2008年12月3日（水）～5日（金）10:00 ～ 17:00 |
| ●会 場 | 幕張メッセ |
| ●入場料 | 無料（事前登録制） |
| ●主 催 | SEMIジャパン |
| 【 FTIRガス分析装置 】 プロセス装置から排出されるPFCsガスの成分分析 |
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● 工業用ガス分析装置 IG-2000 誰にでも現場で簡単にガス成分分析ができるプロセス用ガス連続モニターです。エプソンメソッドに対応した「PFC簡易測定ツール」を搭載。半導体・液晶工場におけるPFCガス（地球温暖化ガスなど）の現場分析に最適です。
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| 【 膜厚評価装置 】 省スペース・高機能エリプソメータを低価格にてご提供 |
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● 卓上型分光エリプソメータ FE-5000S 高精度な膜厚解析・光学定数解析が可能な卓上型分光エリプソメータです。自動角度可変測定、全角度同時解析など高機能仕様の分光エリプソメータを低価格・省スペースにて実現しました。薄膜材料における多層薄膜の膜厚解析が可能であり、膜厚管理・膜質管理に有用な情報を提供することが可能です。
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【 膜厚評価装置 】 薄膜から厚膜までさらに広がる測定範囲 |
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● 反射分光膜厚計 FE-3000 マルチチャンネル検出器による高速性と、顕微光学系による多機能を付加した光干渉式膜厚測定システムです。紫外可視域から近赤外域までの顕微反射スペクトルにより、多層薄膜から厚膜まで幅広いレンジの膜厚測定を高速・高精度で実現します。半導体材料、FPD材料、光記憶材料、新機能性材料など、多様化する各種膜厚、膜質解析にお応えします。
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| 【 ゼータ電位・粒径測定装置 】 CMPスラリー分散評価とウｪハ表面解析 |
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● ゼータ電位・粒径測定システム ELSZ series  微粒子の分散・凝集性、表面改質の指標となるゼータ電位および粒子径・粒子径分布を測定する装置です。
CMPのスラリー液に含まれる研磨微粒子の分散安定性評価、シリコンウェハ上の表面電荷測定に利用できます。
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| ●日 時 | 2008年12月3日（水） 15:30～16:20 |
| ●会 場 | セミナールームIV（7ホール） |
●タイトル |
エプソンメソッドを活用した地球温暖化ガスの排出量の評価方法と、 FTIR分析手法の応用例の紹介について |
| ●概 要 | FTIRを用いたPFCsガスの分析は、インテルプロトコールに記載されて おりますが、専門的な知識と技術が必要です。 現在、簡易に分析するための方法としてエプソンメソッドが公開されて おります。 本セミナーでは、エプソンメソッドを活用した「工業用ガス分析装置 IG シリーズ」の評価方法と、FTIR分析手法のメリットを活かした半導体・ 液晶関連の材料ガス製造ラインの管理モニターから、品質評価まで IGシリーズの応用例をご紹介します。 |
