●名 称 | 第18回 ファインテックジャパン (フラットパネルディスプレイ研究開発・製造技術展) |
●日 時 | 2008年4月16日(水)~18日(金)10:00 ~ 18:00 (最終日は17:00終了) |
●会 場 | 東京国際展示場(東京ビッグサイト) 東ホール |
●主 催 | リードエグジビション ジャパン株式会社 |
●同時開催 | 第3回 FPD 部品・材料 EXPO Display2008,第4回 国際 フラットパネルディスプレイ展 |
【 光源評価 】 バックライトの評価も簡単により高精度に! |
||||
●全光束測定システム(積分半球仕様) HM series 積分半球による光源評価のご提案です。積分球(全球)の弱点である「光源点灯治具の自己吸収」による誤差を解消、全光束評価が難しいバックライトなどの面発光光源も簡単に精度良く評価できるシステムを提供します。
|
【 リタデーション評価 】 0.1秒以下の速さで低リタデーションと主軸方位角の同時測定を実現! |
||||
●低リタデーション測定装置 RE-100 偏光計測モジュールを用いた計測システムです。低リタデーションサンプルのリタデーションおよび主軸方位角を同時にかつ高速で測定できます。形状がコンパクトであり、高速測定が可能なことから、フィルムや光学材料のインライン測定に最適です。
|
【 膜厚評価 】 コンパクト・高機能エリプソメータを低価格で提供! |
||||||||
● 卓上型分光エリプソメータ FE-5000S 高精度な膜厚解析・光学定数解析が可能な卓上型分光エリプソメータです。自動角度可変測定、全角度同時解析など高機能仕様の分光エリプソメータを低価格・省スペースにて実現しました。薄膜材料における多層薄膜の膜厚解析が可能であり、膜厚管理・膜質管理に有用な情報を提供することが可能です。
|
【 膜厚評価 】 多層膜の膜厚・膜質評価を高速・高精度で実現! |
||||||||
● 反射分光膜厚計 FE-3000 マルチチャンネル検出器による高速性と、顕微光学系による多機能を付加した光干渉式膜厚測定システムです。紫外可視域から近赤外域までの顕微反射スペクトルにより、多層薄膜から厚膜まで幅広いレンジの膜厚測定を高速・高精度で実現します。半導体材料、FPD材料、光記憶材料、新機能性材料など、多様化する各種膜厚、膜質解析にお応えします。
|
【 輝度評価 】 超低輝度(0.005cd・m-2)から高輝度(400,000cd・m-2)! |
||||||||
●高感度分光放射輝度計 HS-1000 (参考出品) 0.005cd・m-2の超低輝度から400,000cd・m-2の高輝度まで高速・高精度測定が可能な分光放射輝度計です。輝度・色度精度の高い分光方式でありながら、小さい偏光誤差を実現しています。
|
展示会場内特設ステージにて開催されます最新製品・技術情報の特設ステージで、下記講演を行います。 | |
●テーマ |
FPDの研究や製造現場での材料検討から 製品の出来栄え評価まで |
●内 容 | 光の根源である発光素子の特性や蛍光体の量子効率、製造工程での光学検査、製品の動画解像度評価に至るまで光計測技術を紹介します。 |
●日 時 | 2007年4月18日(金) 11:00~12:00 |
●会 場 | 展示会場内特設ステージ |