●名 称 | Convertech JAPAN 2008 (コンバーティング・テクノロジー総合展) |
●日 時 | 2008年2月13日(水)~15日(金)10:00 ~ 18:00 (最終日は17:00閉会) |
●会 場 | 東京国際展示場(東京ビッグサイト) 東3ホール |
●主 催 | 株式会社 加工技術研究会 |
●併 催 | nano tech 2008 ,ナノバイオ Expo 2008,ASTEC 2008, METEC '08, 新機能性材料展 2008 nano week 2008 |
【 IN LINE 】 品質情報をリアルタイムで! |
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● ライン計測システム 弊社のコア技術である分光計測技術を最大限活用することで、製品品質の評価方法から製造ラインでの品質管理方法、さらに生産現場での用途や生産ライン状況に応じた最適な品質評価方法をご提案します。
(写真:トラバースタイプ)
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【 Re.評価 】 0.1秒以下の速さで低Re.と主軸方位角の同時測定を実現! |
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● 低リタデーション測定装置 RE-100 偏光計測モジュールを用いた計測システムです。低リタデーションサンプルのリタデーションおよび主軸方位角を同時にかつ高速で測定できます。形状がコンパクトであり、高速測定が可能なことから、フィルムや光学材料のインライン測定に最適です。
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【 膜厚評価 】 多層膜の膜厚・膜質評価を高速・高精度で実現! |
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● 反射分光膜厚計 FE-3000 マルチチャンネル検出器による高速性と、顕微光学系による多機能を付加した光干渉式膜厚測定システムです。紫外可視域から近赤外域までの顕微反射スペクトルにより、多層薄膜から厚膜まで幅広いレンジの膜厚測定を高速・高精度で実現します。半導体材料、FPD材料、光記憶材料、新機能性材料など、多様化する各種膜厚、膜質解析にお応えします。
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【 表面電位 】 表面改質評価や表面処理評価に最適! |
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●ゼータ電位・粒径測定システム ELSZ series 従来からの希薄溶液に加え濃厚溶液でのゼータ電位・粒子径測定が可能です。
粒子径測定範囲も(0.6nm~7μm)、濃度範囲(0.001%~40%)に対応。装置も従来装置に比べコンパクトになり、取扱いが簡単な電気泳動セルにより操作性が向上しました。
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