●日 時 | 2008年10月16日(木) 13:00~16:00 (受付12:30~) |
●参加費 | 無料 |
●会 場 | シンフォニア岩国 2階 特別会議室 住所:山口県岩国市三笠町1-1-1 TEL:0827-29-1600 FAX:0827-29-1609 |
●お申込み | お申し込みは終了させていただきました |
●担 当 | 川上・川西 TEL:(072)855-8564 FAX:(072)850-9159 |
多層膜の膜厚・膜質評価を高速・高精度で実現! |
●反射分光膜厚計 FE-3000 マルチチャンネル検出器による高速性と、顕微光学系による多機能を付加した光干渉式膜厚測定システムです。紫外可視域から近赤外域までの顕微反射スペクトルにより、多層薄膜から厚膜まで幅広いレンジの膜厚測定を高速・高精度で実現します。半導体材料、FPD材料、光記憶材料、新機能性材料など、多様化する各種膜厚、膜質解析にお応えします。
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ナノ粒子の分散状態評価、濃厚溶液での粒子径計測が可能 |
●濃厚系粒径アナライザー FPAR-1000 希薄系から濃厚系まで、幅広い濃度領域での粒子径測定が可能です。
コロイド分散液やスラリーの分散状態の解析に最適です。 |
希薄溶液から濃厚溶液まで幅広い濃度範囲のゼータ電位・粒子径を一台で測定可能 |
●ゼータ電位・粒径測定システム ELSZ series 従来からの希薄溶液に加え濃厚溶液でのゼータ電位・粒子径測定が可能です。粒子径測定範囲は0.6nm~7000nm、対応濃度範囲は、0.001%~40%です。従来の装置に比べコンパクトになり、取扱いが簡単な電気泳動セルにより操作性が向上しました。
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現場で簡単に測定可能な高精度プロセス用ガス連続モニター |
●工業用ガス分析装置 IG シリーズ プロセス現場でのガス成分分析が手軽にできる高感度プロセス用FTIRガス連続モニターです。
プロセス装置から排出されるPFCsガスの分解効率、排出量試算、およびプロセス最適化、除害装置の除害効率評価などに最適です。簡単なガスセル交換で幅広い濃度範囲の多種ガス成分分析に対応可能であり、半導体特殊ガスなどトレーサビリティのあるガスライブラリーによる定性・定量解析が高精度にできます。研究分野から品質管理、ライン管理まで対応できる装置です。 |