●日 時 | 2007年7月31日(火) 13:00~16:30 (受付12:30~) |
●費 用 | 無料 |
●会 場 | 8階 住所:横浜市中区万代町2丁目4番地7 TEL:045-681-6551 FAX:045-664-9400 |
●お申込 | お申込は終了させていただきました |
ゼータ電位・粒径測定 |
●ゼータ電位・粒径測定システム ELSZ series 従来からの希薄溶液に加え濃厚溶液でのゼータ電位・粒子径測定が可能な装置です。粒子径測定範囲も(0.6nm~7μm)、濃度範囲(0.001%~40%)に対応。装置も従来装置に比べコンパクトになり、取扱いが簡単な電気泳動セルにより操作性が向上しました。
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工業用ガス分析装置 |
●工業用ガス分析装置 IG シリーズ プロセス現場でのガス成分分析が手軽にできる高感度プロセス用FTIRガス連続モニターです。
プロセス装置から排出されるPFCsガスの分解効率、排出量試算、およびプロセス最適化、除害装置の除害効率評価などに最適です。簡単なガスセル交換で幅広い濃度範囲の多種ガス成分分析に対応可能であり、半導体特殊ガスなどトレーサビリティのあるガスライブラリーによる定性・定量解析が高精度にできます。研究分野から品質管理、ライン管理まで対応できる装置です。 |
反射分光膜厚計 |
●反射分光膜厚計 FE-3000 マルチチャンネル検出器による高速性と、顕微光学系による多機能性を付加した光干渉式膜厚測定システムです。
紫外・可視域から近赤外域までの顕微反射スペクトル測定により、多層薄膜から厚膜まで幅広いレンジの膜厚測定を非破壊・非接触、かつ高速・高精度・高再現性で実現します。
非線形最小二乗法薄膜解析ソフトウェアによる多層膜の膜厚解析、光学定数解析(n:屈折率,k:消衰係数)による膜物性解析など、さまざま膜種や用途に対応可能です。
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